Генератор ультразвук ванна схема

генератор ультразвук ванна схема
Это объясняется тем, что при больших скоростях захлопывания и малых промежутках между пузырьками потоки жидкости приобретают большую скорость, в результате чего падает бернуллиевское давление вблизи пузырька и процесс захлопывания замедляется. Эти твердые поверхности при сварке являются гетерогенными зародышами кристаллитов. Для обеспечения равномерного распределения интенсивностей на больших площадях во всей зоне обработки используют преобразователи с низкой добротностью и высоким электроакустическим к. п. д. При разработке конструкции преобразователей применена согласующая осесимметричная оболочка. Она обладает плохими механическими свойствами, в частности низкой ударной вязкостью. Столбчатые кристаллиты прекращают свой рост, упираясь в закристаллизовавшуюся зону автономного роста. Например, не ясна лрирода образования кавитационных тяжей, хотя сильная зависимость их формы от частоты позволяет предположить влияние интерференционной структуры ближнего поля излучателя, которая является единственным фактором, резко реагирующим на небольшие изменения частоты.


Все модели оснащены таймером от 1 до 15 минут, как и режимом непрерывной очистки. Значения краевого угла смачивания для случая роста зародыша на дисперсных твердых частицах из неметаллических материалов радиусом 10-6-10-7 м составляют 100-175°. Твердая частица с дефектом в виде конической или сфе-роподобной впадины является центром образования зародышей кавитации. Развитие микропроцессорной техники обеспечиваетудобство контроля и регулировки ультразвуковых генераторов.

Металл сварочной ванны неоднородный (гетерогенный). В нем могут быть не полностью расплавившиеся частицы основного, присадочного или легирующих материалов, он контактирует по границам ванны с частично оплавленными зернами основного металла. При очистке методом погружения мелкие детали загружают в ванну в сетчатых корзинах или барабанах, располагая их возможно ближе к поверхности излучателей. Степень развитости кавитации принято характеризовать индексом кавитации, предложенным Розенбергом: -индекс кавитации является мерой пространственной плотности потенциальной энергии, запасенной кавитационными пузырьками в данном объеме. Однако при очистке поверхности прецизионных деталей полупроводниковой и электронной техники, где необходимо снизить микроударные нагрузки, чтобы исключить повреждения ажурной конструкции, используют органические растворители с достаточно высокой упругостью пара. Автоматическое смещение этих транзисторов обеспечивается резисторами R3 — R6 и конденсаторами С6, С7 и С10, С11, включенными в цепь базы каждого транзистора.

Похожие записи: